搅拌磨用于将固体分散在悬浮液中，也就是液体中。搅拌磨可以用于制造粘合剂、印刷油墨、化妆品和药品。为此，研磨材料通过供给通道被供给到形成在转子外壁和容器壁之间的搅拌磨的研磨室中，并且通过布置在转子和/或容器壁上的工具与辅助研磨介质例如陶瓷球一起被粉碎，该辅助研磨介质在下文中也将被称为研磨介质。附聚物通过搅拌运动分散，晶体结构被粉碎。这里，初始粒度可以从100-500微米减小到小于3微米。然后，成品通过研磨材料排出通道经由研磨介质分离装置被引导至排出管道，所述研磨介质分离装置尤其是防护屏的形式。在这种情况下，转子形成围绕分离装置旋转的保持架。

通常布置在转子中并由转子和内定子限定的研磨材料排出通道中尽可能少或没有研磨介质。但由于分离装置中研磨介质的沉积，搅拌磨内的压力总是升高，可能导致产品减少，甚至导致自动停机，以免损坏搅拌磨。

本发明的目的是避免研磨介质由于牵引力和分离装置的堵塞而沉积在研磨介质分离装置上。本发明的核心是通过减小转子和分离装置之间的距离来有效地防止研磨介质积聚在分离装置处。这可以通过增加分离装置的直径，即特别是筛子的直径来实现。特别地，转子和分离装置之间的距离可以根据研磨介质的直径来选择，而不是仅根据搅拌磨的结构尺寸来选择。此外，可以为该距离设置独立于研磨介质尺寸的较大值。这些措施可以减少由于牵引而沉积在分离装置上的研磨介质的积累。因此，不仅保证了稳定的产品流动，而且保证了待分散产品中粗颗粒的快速粉碎。

具体而言，该任务通过具有以下特征的搅拌磨来完成。该搅拌磨机具有研磨容器、由容器壁限定的研磨室和搅拌器，该搅拌器可围绕中心纵轴旋转并具有内径d351的转子。多个工具安装在转子上并向容器壁延伸。此外，向转子延伸的第二工具可以放置在容器壁上。搅拌磨还具有布置在转子内部的内定子。在转子和内定子的外壁之间形成研磨材料排出通道，研磨材料通过该通道被引导到分离装置，然后到排出管。研磨室至少部分填充有直径为c的研磨介质。直径为d30的分离装置布置在内定子上方。转子和分离装置之间的距离s是根据转子的内径和分离装置的直径之差获得的。根据本发明，距离s应该根据研磨介质的直径c来选择，并且s=0.5。(d351-d30)5 & # xb7；在另一个优选实施例中，距离s相对于研磨介质的直径c可以是s3。此外，根据本发明的实施例，无论研磨介质的尺寸如何，距离s的值都不应超过2 mm。